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          真空鍍膜

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          真空鍍膜設備有哪些基本技術要求?


          發布時間:2019-05-31 15:45:25

          真空鍍膜設備有哪些基本技術要求呢?森泰鍍膜來告訴您。

          真空鍍膜

          1、設備中的真空管道、靜態密封零部件(法蘭、密封圈等)的結構形式,應符合GB/T6070的規定。

          2、在低真空和高真空管道上及真空鍍膜室上應安裝真空測量規管,分別測量各部位的真空度。當發現電場對測量造成干擾時,應在測量口處安裝電場屏蔽裝置。

          3、如果設備使用的主泵為擴散泵時,應在泵的進氣口一側裝設有油蒸捕集阱

          4、設備的鍍膜室應設有觀察窗,應設有擋板裝置。觀察窗應能觀察到沉積源的工作情況以及其他關鍵部位。

          5、離子鍍沉積源的設計應盡可能提高鍍膜過程中的離化率,提高鍍膜材料的利用率,合理匹配沉積源的功率,合理布置沉積源在真空室體的位置。

          6、合理布置加熱裝置,一般加熱器結構布局應使被鍍工件溫升均勻一致。

          7、工件架應與真空室體絕緣,工件架的設計應使工件膜層均勻。

          8、離子鍍膜設備一般應具有工件負偏壓和離子轟擊電源,離子轟擊電源應具有抑制非正常放電裝置,維持工作穩定。

          9、真空室接不同電位的各部分間的絕緣電阻值的大小,均按GB/T11164-1999中的4.4.6

          10、其他注意事項

          1)環境溫度:10-30oC

          2)相對濕度:不大于75%

          3)冷卻水進水溫度:不高于25oC

          4)冷卻水質:城市自來水或相當質量的水。

          5)供電電源:380V三相50Hz或220V單相50Hz(由所用電器需要而定);電壓波動范圍:342-399V或198-231V;頻率波動范圍:49-51Hz。

          6)設備所需的壓縮空氣,液氮,冷水、熱水等的壓力、溫度,消耗量等,均應在產品使用說明書中寫明。

          7)設備周圍環境整潔,空氣清潔,不應有引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導電的塵?;驓怏w存在。

          森泰納米科技(深圳)有限公司是一家專業從事以真空鍍膜加工、離子鍍膜加工服務為主的港資企業。

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